Τα Sub-Resolution Assist Features (SRAF) είναι κομμάτια χρωμίου τοποθετημένα στρατηγικά στη μάσκα για να οξύνουν εκτυπώσιμες εικόνες. Τα SRAF αποτελούν θεμελιώδες συστατικό των μάσκων, τόσο για μάσκες του Μανχάταν όσο και για τις καμπύλες μάσκες, όσο και για μάσκες DUV ή EUV.

Παρακολουθήστε το Εκπαιδευτικό βίντεο λύσης Calibre SRAF - Γιατί SRAF; στο Κέντρο υποστήριξης εξηγώντας τις βασικές αρχές σχετικά με το γιατί χρειάζονται SRAF.

Το Calibre NMclsraf λειτουργεί με πρότυπα. Τα πρότυπα μπορούν είτε να οριστούν απευθείας από τον χρήστη είτε να εξαχθούν από τα αποτελέσματα προσομοίωσης ILT. Η προσέγγιση βάσει προτύπων που χρησιμοποιείται στο Calibre NMCLSraf παρέχει την ευελιξία για την καταγραφή των απαιτήσεων σχήματος του Calibre PxOPC, ενός μηχανισμού αντίστροφης λιθογραφίας (ILT). Αυτή η ευελιξία του ορισμού σχήματος, μαζί με την ταχύτητα εφαρμογής προτύπου, φέρνει τη λιθογραφική δύναμη της αντίστροφης λιθογραφίας στη ροή κατασκευής με οικονομικά αποδοτικό τρόπο.

Το Calibre NMCLSraf αξιολογεί παραμέτρους MRC, όπως την ελάχιστη μετατόπιση για την εισαγωγή SRAF και το ελάχιστο μήκος των SRAF κατά τη δημιουργία καμπυλόγραμμων SRAF και εξάγει MRC-Clean SRAF στο τέλος της διαδικασίας εκκαθάρισης.

Η διαχείριση της αποφυγής εκτύπωσης SRAF (SPA) γίνεται στο εργαλείο Calibre NMCloPC. Το Calibre NMCloPC ανιχνεύει και διορθώνει για τυχόν εκτύπωση που συμβαίνει γύρω από λειτουργίες υποανάλυσης (SRAF) ή οπές γύρω από τα αντι-SRAF. Εάν το διορθωμένο σχήμα παραβιάζει έναν εσωτερικό κανόνα MRC, τα τμήματα που παραβιάζουν θα κοπούν ή ολόκληρο το σχήμα θα διαγραφεί εάν είναι απαραίτητο.

Με τη μετάβαση σε κόμβους προηγμένης τεχνολογίας, τα OPC και RET καθίστανται απαραίτητα για τη διαμόρφωση εξαρτημάτων Silicon Photonics. Τα προηγμένα σχέδια Silicon Photonics ενδέχεται να παρουσιάζουν σύνθετα καμπυλόγραμμα σχήματα με πολύ επιθετικές κρίσιμες διαστάσεις (CD ή/κάτω από το όριο ανάλυσης των εργαλείων λιθογραφίας 193nm). Ο κύριος στόχος κατασκευής τέτοιων προηγμένων συσκευών είναι η διατήρηση στο πυρίτιο της σχεδιασμένης γεωμετρίας που καθορίζει τη λειτουργικότητα της συσκευής. Για να μάθετε πώς οι λύσεις ILT του Calibre και οι καλές λειτουργίες υποβοήθησης ανάλυσης (SRAF) βοηθούν στην εκτύπωση και την αντιμετώπιση των προκλήσεων του Silicon Photonics OPC και SRAF, διαβάστε το τεχνικό έγγραφο Προηγμένες λύσεις ILT για την κατασκευή σχεδίων φωτονικής.