Το Calibre NMCloPC επιτρέπει την υβριδική καμπυλόγραμμη ροή OPC ILT που παρέχει την απαιτούμενη λιθογραφική ποιότητα με ταχύτερο χρόνο εκτέλεσης από ό, τι με μια πλήρη λύση ILT. Αυτή η ροή μπορεί να χρησιμοποιηθεί για τη δημιουργία καμπυλόγραμμων μάσκων που απαιτούνται για το Silicon Photonics ή για ευθύγραμμα σχέδια για λογική ή μνήμη.

Το μοντέλο πυρήνα Calibre OPC μπορεί να μοντελοποιήσει με ακρίβεια τα τρισδιάστατα εφέ ηλεκτρομαγνητικού πεδίου μάσκας για καμπύλες μάσκες. Η χρήση περιγραμμάτων SEM για βαθμονόμηση μοντέλου σε καμπυλόγραμμα μοτίβα του επιτρέπει να περιγράψει την πραγματική συμπεριφορά στη γκοφρέτα. Η προηγμένη τεχνολογία Calibre NMCloPC μεγιστοποιεί το δικαίωμα λιθογραφίας και επιτυγχάνει την απαιτούμενη ακρίβεια OPC.