In den letzten zehn Jahren war die Photoniktechnologie eine neue Technologie für optische Telekommunikation und optische Verbindungen in der Mikroelektronik. Infolgedessen ist eine große Vielfalt an Photonik-Designmethoden mit sehr anspruchsvollen Skalen und Formen zusammengekommen. Die Herstellung solch kurviger und kritischer photonischer Formen erfordert fortschrittliche Auflösungsverbesserungstechniken (RET), einschließlich inverser Lithografietechniken (ILT) mit 193-nm-Immersionslithografie. In diesem Artikel untersuchen wir die Herausforderungen bei der Herstellung mehrerer Photonikgeräte mit fortschrittlichen ILT-Lösungen und die Auswirkungen des SRAF-Einfügens auf eine gute Litho-Qualität, einschließlich Kantenplatzierungsfehler (EPE), PV-Band und Linienkantenrauheit (LER). Wir werden demonstrieren, wie unsere Calibre ILT-Lösungen die Herstellung der anspruchsvollsten Photonikdesigns ermöglichen.
