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Übersicht

Calibre nmCLOPC

Die Anforderungen an die Musterung lithografischer Verfahren der nächsten Generation haben Lithografen dazu veranlasst, die Vorteile krummliniger Masken zu erkunden. Die Calibre OPC-Engine wurde erweitert, um krummlinige Muster zu erzeugen und einen schnellen krummlinigen OPC-Fluss mit vollem Chip zu unterstützen.


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Person in schwarzem Hemd, die an einer weißen Wand steht und einen dunklen Gegenstand mit verschwommenem Hintergrund hält.
Wesentliche Funktionen

Krummliniger OPC-Motor

Die Calibre Curvilinear OPC-Engine kann rechteckige Formen in krummlinige Muster umwandeln und sicherstellen, dass das EPE-Ziel erreicht wird. Es führt SRAF-Druckprüfungen für gekrümmte Formen durch und wendet gleichzeitig MRC-Beschränkungen an, um eine qualitativ hochwertige krummlinige Maskengenerierung sicherzustellen.

Schnelle Laufzeit und Qualität

Schnelle krummlinige OPC-Komplettlösung

Calibre nmcLOPC ermöglicht den krummlinigen Hybrid-ILT-OPC-Fluss, der die erforderliche lithografische Qualität mit einer schnelleren Laufzeit als mit einer vollständigen ILT-Lösung liefert. Dieser Flow kann verwendet werden, um krummlinige Masken zu erzeugen, die für Silizium-Photonik benötigt werden, oder für geradlinige Designs für Logik oder Speicher.

Eine Nahaufnahme eines Chips mit einem Leiterplattendesign darauf.
Effizienz und Genauigkeit

Native krummlinige Polygondarstellung

Im Gegensatz zu herkömmlichen OPC-Engines, die auf Manhattan-Kantenbewegungen angewiesen sind, wendet Calibre nmcLOPC eine native krummlinige Polygondarstellung mit Bezier-Splines an und führt eine Spline-basierte Korrektur durch, indem es eine „OPC-Kurve“ bewegt. Dieses neue Format kommt nicht nur der Verbesserung der Genauigkeit zugute, sondern mindert auch die Explosion der Datengröße, die durch krummlinige Masken verursacht wird.

Person in schwarzem Hemd, die an einer weißen Wand steht und einen dunklen Gegenstand mit verschwommenem Hintergrund hält.
Mustertreue und Genauigkeit

Fortschrittliche OPC-Modellierungslösungen für krummlinige Masken

Das Calibre OPC-Kernmodell kann die 3D-elektromagnetischen Feldeffekte der Maske für krummlinige Masken präzise modellieren. Die Verwendung von SEM-Konturen für die Modellkalibrierung auf krummlinige Muster ermöglicht es, das tatsächliche Verhalten auf dem Wafer zu beschreiben. Die fortschrittliche Calibre nmCLOPC nmcLOPC-Technologie maximiert den Anspruch auf Lithografie und erreicht die erforderliche OPC-Genauigkeit.

Eine Person steht vor einer weißen Wand mit einem Schwarzweißbild einer Katze darauf.

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