Maskenprozesskorrektur (MPC) für krummlinige Designs
Calibre nmCLMPC führt die Mask Process Correction (MPC) für Eingabe-Layouts mit krummlinigen Polygonen durch, wie sie mit OPC von Inverse Lithography Technology (ILT) erzeugt wurden, sowie für photonische Siliziumstrukturen.
Innovative, auf Krümmung basierende Fragmentierung
Die krümmungsbasierte Fragmentierung in der Calibre nmCLMPC NMCLMPC-Engine bestimmt die Kantenfragmentlänge auf der Grundlage der lokalen Krümmung und liefert eine Ausgabe, die für eine krummlinige MPC-Korrektur geeignet ist. Diese Funktion versucht, Dateigröße, Genauigkeit und Ausführungszeit für die Korrektur krummliniger Maskenprozesse gemeinsam zu optimieren.
Option zur Erzielung einer schnellen Konvergenz
Calibre nmCLMPC kann mit krümmungsbasierter Vorspannung verwendet werden, um eine schnelle Konvergenz für krummlinige MPC zu ermöglichen. Die auf Krümmung basierende Pre-Bias-Methode reduziert die Anzahl der erforderlichen Iterationen, ohne die Korrekturgenauigkeit zu beeinträchtigen, und spart Laufzeit.
Fähigkeit zur gleichzeitigen Korrektur
Calibre nmCLMPC kann krummlinige und rechteckige Formen in einem Durchgang korrigieren, wobei dieselben Regeln wie in einem Standardrezept auf die rechteckigen Formen angewendet werden.
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