Warum Calibre nmCLBIAS?
Da die fortschrittliche Lithografie die traditionellen Geometrien Manhattans hinter sich lässt, entsprechen Masken- und Wafer-Realitäten nicht mehr der idealisierten geradlinigen Designabsicht. Mit abgerundeten Ecken, zunehmender Musterkomplexität und der Zunahme krummliniger Maskenflüsse, die durch Mehrstrahl-Maskenschreiber ermöglicht werden, unterstützt Calibre NMCLBias die Umstellung der Branche hin zu einer genaueren, herstellbaren Musterdarstellung für Prozesse der nächsten Generation.
