Skip to main content
Denne side vises ved hjælp af automatiseret oversættelse. Vil du have den vist på engelsk i stedet?

Oversigt

Calibre nmCLOPC

Mønsterkravene til næste generations litografiske processer har skubbet litografer til at udforske fordelene ved krumlinede masker. Calibre OPC-motoren er blevet udvidet til at generere krumlinede mønstre og understøtte en hurtig fuldchip krumlinjet OPC-flow.


Kontakt vores tekniske team: 1-800-547-3000

Person i sort skjorte, der står mod hvid væg, holder en mørk genstand med sløret baggrund.
Nøglefunktioner

Krøllet OPC-motor

Calibers krumlinede OPC-motor kan konvertere rektangulære former til krumlinede mønstre og sikre, at EPE-målet nås. Den udfører SRAF-udskriftskontrol for buede former og anvender MRC-begrænsninger samtidigt for at sikre generering af krumlinjet maske i høj kvalitet.

Hurtig driftstid og kvalitet

Hurtig krøllet OPC-løsning med fuld chip

Caliber NMCloPC muliggør det hybride ILT-krumlinede OPC-flow, der leverer den krævede litografiske kvalitet med en hurtigere driftstid end med en komplet ILT-løsning. Denne strøm kan bruges til at generere krumlinede masker, der er nødvendige for Silicon Photonics, eller til retlinede designs til logik eller hukommelse.

Et nærbillede af en chip med et printkortdesign på.
Effektivitet og nøjagtighed

Indfødt krumlinet polygonrepræsentation

I modsætning til traditionelle OPC-motorer, der er afhængige af Manhattan-kantbevægelse, anvender Calibre NMCloPC native krumlinet polygonrepræsentation med Bezier-splines og udfører splinebaseret korrektion ved at flytte en „OPC-kurve“. Dette nye format gavner ikke kun nøjagtighedsforbedringen, men mindsker også datastørrelseseksplosion introduceret af krumlinede masker.

Person i sort skjorte, der står mod hvid væg, holder en mørk genstand med sløret baggrund.
Mønstertroskab og nøjagtighed

Avancerede OPC-modelleringsløsninger til krumlinede masker

Calibre OPC-kernemodellen kan nøjagtigt modellere masken 3D-elektromagnetiske felteffekter til krumlinede masker. Brugen af SEM-konturer til modelkalibrering til krumlinede mønstre gør det muligt at beskrive den reelle opførsel på wafer. Den avancerede Calibre NMCloPC-teknologi maksimerer litografirettighederne og opnår den krævede OPC-nøjagtighed.

En person står foran en hvid væg med et sort/hvidt billede af en kat på den.

Relaterede ressourcer

Klar til at lære mere om Calibre?

Vi står klar til at besvare dine spørgsmål! Kom i kontakt med vores team i dag

Ring til: 1-800-547-3000

Calibre konsulenttjenester

Vi hjælper dig med at implementere, implementere, tilpasse og optimere dine komplekse designmiljøer. Direkte adgang til ingeniør- og produktudvikling giver os mulighed for at udnytte dyb domæne- og emneekspertise.

Supportcenter

Siemens Support Center giver dig alt på ét brugervenligt sted -
vidensbase, produktopdateringer, dokumentation, supportsager, licens/ordreinformation og meget mere.

Caliber IC Design & Fremstilling

Calibre-værktøjspakken leverer nøjagtig, effektiv, omfattende IC-verifikation og optimering på tværs af alle procesnoder og designstilarter, samtidig med at ressourceforbrug og tapeout-planer minimeres.