Maskeproceskorrektion (MPC) til krumlinede design
Calibre NMCLMPC udfører Mask Process Correction (MPC) for inputlayout med krumlinede polygoner, såsom dem, der er produceret af Inverse Lithography Technology (ILT) OPC, samt siliciumfotoniske strukturer.
Innovativ krumningsbaseret fragmentering
Den krumningsbaserede fragmentering i Calibre NMCLMPC-motoren bestemmer kantfragmentlængden baseret på lokal krumning og giver output, der er muligt for krumlinjet MPC-korrektion. Denne funktion forsøger at co-optimere filstørrelse, nøjagtighed og udførelsestid til korrektion af krumlinjet maskeproces.
Mulighed for hurtig konvergens
Calibre NMCLMPC kan bruges med krumningsbaseret præ-forspænding for at muliggøre hurtig konvergens for krumlinjet MPC. Den krumningsbaserede præ-bias-metode reducerer antallet af krævede iterationer uden at forringe korrektionsnøjagtigheden og sparer driftstid.
Samtidig korrektionsevne
Calibre NMCLMPC kan korrigere krumlinede og rektangulære former i én gang ved at anvende de samme regler som i en standardopskrift på de rektangulære former.
Klar til at lære mere om Calibre?
Vi står klar til at besvare dine spørgsmål! Kom i kontakt med vores team i dag
Ring til: 1-800-547-3000
Calibre konsulenttjenester
Vi hjælper dig med at implementere, implementere, tilpasse og optimere dine komplekse designmiljøer. Direkte adgang til ingeniør- og produktudvikling giver os mulighed for at udnytte dyb domæne- og emneekspertise.
Supportcenter
Siemens Support Center giver dig alt på ét brugervenligt sted -
vidensbase, produktopdateringer, dokumentation, supportsager, licens/ordreinformation og meget mere.
Caliber IC Design & Fremstilling
Calibre-værktøjspakken leverer nøjagtig, effektiv, omfattende IC-verifikation og optimering på tværs af alle procesnoder og designstilarter, samtidig med at ressourceforbrug og tapeout-planer minimeres.