Hvorfor Calibre NMclbias?
Efterhånden som avanceret litografi bevæger sig ud over traditionelle Manhattan-geometrier, matcher maske- og wafer-virkeligheder ikke længere idealiseret retlinjet designhensigt. Med afrundede hjørner, stigende mønsterkompleksitet og stigningen i krumlinjede maskestrømme aktiveret af multistrålemaskeforfattere hjælper Calibre NMCLBias med at understøtte branchens skift mod mere nøjagtig, fremstillelig mønsterrepræsentation til næste generations processer.


