Calibre Curvilinear MDP

Mønsterkrav til næste generations litografiske processer og behovet for at holde produktionsomkostningerne nede har presset litografer til at udforske fordelene ved de krumlinede masker. Flere undersøgelser støttet af de eksperimentelle resultater har vist den litografiske fordel ved krumlinede fotomasker i forhold til retlinede tilnærmelser. Fremstillbarheden af krumlinede masker er blevet begrænset på grund af arkitekturen af de variabelt formede stråleskrivere, hvilket gjorde det uoverkommeligt for både maskedatapropridning og maskeskrivning. Tilgængeligheden af multistrålemaskeforfattere har fjernet disse vejspærringer og bragt introduktionen af krumlinede masker meget tættere på virkeligheden.

Læs Kurver fremad! IC-fremstilling forbereder sig på krumlinede masker for at lære mere om fordelene ved krumlinede masker.

Calibre Curvilinear MDP-værktøjspakken giver mulighed for problemfri fortsættelse af de datamanipulationer, der kræves til Resolution Enhancement Techniques (RET), såsom indsættelse af Sub-Resolution Assist Features (SRAF'er) og OPC (Optical Process Correction) og Mask Process Correction (MPC) til maskedataformatkonvertering i én batchkørsel.

Traditionelt har multistrålemaskeforfattere understøttet Piecewise-Linear (PWL) data i deres datastier. For nylig har leverandører af multibeam-maskeskrivere introduceret indbygget multigon-understøttelse af den nye generation af multibeam-maskeskriverværktøjer. Formålet med multigon er at repræsentere krumlinede data med indbygget kurveformat til komprimering af filstørrelser i maskestrømmene. Antallet af knudepunkter, der bruges til at repræsentere multigondataene, er væsentligt færre end de knudepunkter, der bruges til at repræsentere Piecewise-Linear-dataene, hvilket resulterer i reduktion af filstørrelsen ved brug af oprindelige kurver til krumlinede data.

Billedet nedenfor viser et eksempel på PWL til venstre og multigon til højre.

Calibre Curvilinear MDP-løsningen understøtter multistrålefrakturstrømme baseret på multigon og er aktiveret med de nyeste multistråleformater som MBW 3.0 fra IMS og MBF 2.1 fra NuFlare.

• Multigon-afstandskontrol: Multigon-afstandskontrollen er designet til at måle afstanden mellem spline-sektioner på multigonlag, hvilket sikrer overholdelse af designbegrænsninger.
• Kontrol af forholdet mellem dybdebredde og dybde bredde: Kontrol af dybdebredde sikrer, at minimumsbredden af en multigon-form er inden for det acceptable område, specifikt når det måles i et givet dybdeområde.
• Multigon-vinkelkontrol: Vinkelkontrollen evaluerer multigonens geometri ved at beregne splinevinklen ved hvert interessepunkt (POI) for en bestemt radius.
• Multigon-kurvningskontrol: Krumningskontrollen er designet til at vurdere glatheden og bøjningskvaliteten af hver Bezier-spline-sektion inden for en multigon ved at beregne den mindste krumningsradius langs dens kontur.

Billedet ovenfor viser eksempler på ekstern afstandskontrol (øverst til venstre), intern afstandskontrol (øverst til højre), spidsdetektion (nederst til venstre) og dybdebreddekontrol (nederst til højre).