Calibre EUV

EUV eller Extreme Ultraviolet litografi er en teknologi, der bruger en meget lille bølgelængde af lys (13,5 nm) til at udskrive billeder på siliciumskiver. Det er nødvendigt, fordi EUVs lille bølgelængde, der er mindre end funktionsstørrelsen, gør udskrivning meget lettere og er afgørende for at opnå mønsteropløsning for avancerede produktionsteknologiske noder som 5nm, 3nm og derover.

Calibre modellerer alle unikke EUV-optiske effekter såsom flare, som inkluderer både kort- og langdistanceeffekter. Calibre understøtter dynamisk modelgenerering til domænedekomponeringsmetode for at tillade kontinuerlig modellering af azimutvinkel, aberrationer, apodisering og kildevariationen på tværs af spalten uden tab af nøjagtighed. 3D-maskeeffekter såsom skyggeeffekten forårsaget af den tykke maskeabsorber og belysning uden for aksen, som varierer på tværs af spalten, kan kompenseres nøjagtigt. Caliber modellerer også den sorte kanteffekt for at eliminere dens billedpåvirkning gennem OPC. Caliber er også forberedt til High NA EUV. Caliber er udstyret med nye funktioner og funktionaliteter til understøttelse af anamorf optik fra modellering gennem OPC.

SRAF'er er sandsynligvis et krav til 5nm-knuden og derunder i EUV-litografi. SRAF'er har en positiv indvirkning på billedloghældningen (ILS) og reducerer derved linjekantrugheden (LER) og forbedrer dybden af fokus (DOF). På grund af EUV's belysning uden for aksen og varierende skyggeeffekter gennem split kan asymmetriske SRAF'er være nødvendige i både vandret og lodret retning, og forskellige SRAF'er kan være nødvendige på forskellige spalteplaceringer.

Calibers SRAF-løsning kan bruge EUV-modeller til SRAF-placering. Calibre PxOPC kan generere asymmetriske SRAF'er og kan justeres til at målrette mod DOF, ILS eller en blanding af mål. Calibre NMSraf kan generere regelbaserede SRAF'er ved hjælp af PxOPC-resultater som en skabelon og kan placere SRAF'er asymmetrisk. Caliber NMCLSraf giver fleksibilitet til fritformede SRAF-former fra Inverse Lithography-motor. Det anvender sekventielt skabeloner, udfører oprydning for MRC-konflikter og kan generere krumlinede SRAF'er på EUV-masker.

High NA (Numerical Aperture) EUV er en udvikling af EUV-litografi (fra nutidens 0,33 NA til> = 0,5 NA), der kræves for at opnå mønsteropløsning til avanceret teknologiknude. Caliber er allerede forberedt til High NA EUV. Calibers modellerings- og maskesynteseprodukter understøtter allerede anamorf optik fra modellering gennem OPC og til MPC/MDP. Caliber EUV OPC med flere mønstre er gennemprøvet i produktionen, og Calibre Source Mask Optimization (SMO) indeholder også avancerede funktioner til EUV med høj NA.

Calibre tilbyder et komplet design gennem fremstillingsflow til EUV-applikationer. Calibers EUV-løsninger løser udfordringer ved at levere:

Fuld modelleringsstøtte til EUV - Calibers modelleringsteknologi understøtter fuldt ud alle EUV-effekter inklusive flare, sort kanteffekt og 3D-maskeeffekter.

Omfattende produktpakke - Alle modellerede effekter er taget højde for i Calibre-produkter som Calibre PxSMo, Calibre PxOPC, Calibre nMOPC, Calibre NMSraf og Calibre OPCVerify, som bruges i tapeout i dag.

Hierarkisk databehandling - Calibre EUV-flow er designet til hovedhierarkiet, mens der bruges komplette globale EUV-modeller, hvilket muliggør hurtig og nøjagtig OPC-flow.

Krøllet databehandling - Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions kan aktiveres på tværs af hele EUV-maskeudtagningsflowet.

Udnyt AI til nøjagtighed på næste node - Calibre EUV inkluderer avancerede maskinlæringsteknikker til at fremskynde maskesyntese, hvilket giver betydelige forbedringer i driftstiden, samtidig med at litografikvaliteten opretholdes.