Produkt
all
Calibre EUV
Om@@
fattende support, der adresserer de unikke udfordringer ved EUV med høj NA, såsom anamorf optik og maske 3D-modellering for at tage højde for skyggeeffekter.
Calibre Computational Lithography
Den umættelige efterspørgsel efter integrerede kredsløb (IC'er) fortsætter med at drive mindre kritiske dimensioner. Fotolitografiprocesser, herunder ekstrem ultraviolet (EUV), præsenterer stadig mere kompleksitet og datamængde. Vores beregningslitografiløsninger muliggør omkostningseffektiv teknologiaktivering.
Calibre Computational Lithography Produkter
Både de litografiske udfordringer og den beregningsmæssige kompleksitet forbundet med avancerede procesnoder skaber et behov for avancerede funktioner inden for computerlitografisoftware og hardware. Calibre-løsningen tilbyder klassens bedste nøjagtighed, hastighed og ejeromkostninger.
Produkt
all
Calibre nmOPC
Tæt optisk nærhed og proceskorrektion for at muliggøre dyb submikronfremstilling.
Produkt
all
Calibre nmSRAF
Indsætter underopløsningsassistentfunktioner (SRAF'er) i et design.
Produkt
all
Calibre OPCverify
Kraftig fuldchip-simulering og litografisk analyse.
Produkt
all
Calibre WORKbench
GUI bruges til at starte en bred vifte af applikationer og til at se resultater.
Produkt
all
Kaliber NMModelFlow
Højskalerbar kalibreringsmotor til optiske modeller, modstandsmodeller og ætsemodeller.
Produkt
all
Calibre pxOPC
Hurtig, invers pixelbaseret optisk nærhedskorrektion.
Produkt
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Let at bruge GUI til optimering af belysningskilde.