Calibre IC Manufacturing Løsninger

En komplet end-to-end-løsning, der omfatter alle trin til forberedelse af krumlinede data fra retargeting til SRAF, OPC, MPC og MDP, der imødekommer de krumlinjede maskegenereringsbehov for specialapplikationer (SiPH) og hukommelsesdesign.

Teknologiaktivering til fotolitografiprocesser, herunder ekstrem ultraviolet (EUV). Calibre beregningsmæssige litografiværktøjer giver forbedret nøjagtighed, hastighed og reducerede ejeromkostninger.

Aktiverer konvertering af maskedataformat og verifikationsopgaver til maskefremstilling, herunder de nyeste multistrålemaskeformater i en fuldt kompatibel Calibre-platform.

Giver optimeringer til e-beam maskeforfattere. Nye korrektions- og modelleringsfunktioner forbedrer maskekritisk dimensionslinearitet og ensartethed for avancerede noder.

Opfylder udfordringerne ved administration af produktionshastighed og systemudnyttelse, samtidig med at der opnås hurtige leveringstider på trods af stadigt stigende kompleksitet og datamængder.

Forbedrer produktudbyttet og giver hurtigere stigning ved at strukturere og analysere enorme mængder data, skabe prædiktive maskinlæringsmodeller og generere handlingsorienterede analyser.

Calibre tilbyder en komplet flowinfrastrukturløsning, der leverer overlegen driftstid og konsistens for at opfylde produktionskravene til hukommelsesenheder og produkter med meget gentagne arrays.

Calibre DFM-værktøjspakken indeholder værktøjer til udbytteanalyse, udskrivbarhed og ydelsesvalidering for at forbedre udbyttet og optimere IC-design.