V posledním desetiletí byla fotonická technologie rozvíjející se technologií pro optické telekomunikace a optické propojení v mikroelektronice. V důsledku toho se velká rozmanitost metodik návrhu fotoniky spojila s velmi náročnými měřítky a tvary. Výroba takových křivých a kritických fotonických tvarů vyžaduje pokročilé techniky vylepšení rozlišení (RET), včetně technik inverzní litografie (ILT) s ponornou litografií 193 nm. V tomto článku zkoumáme výrobní výzvy několika fotonických zařízení využívajících pokročilá řešení ILT a dopad vložení SRAF na zajištění dobré kvality litu, včetně chyby umístění hran (EPE), PVband a drsnosti hrany čáry (LER). Ukážeme, jak naše řešení Calibre ILT umožňují výrobu těch nejnáročnějších fotonických návrhů.
