Korekce procesu masky (MPC) pro křivočaré návrhy
Calibre NMCLMPC provádí korekci procesu masky (MPC) pro vstupní rozvržení s křivočarými polygony, jako jsou ty, které jsou vytvořeny OPC technologie inverzní litografie (ILT), a také křemíkové fotonické struktury.
Inovativní fragmentace založená na zakřivení
Fragmentace založená na zakřivení v modulu Calibre NMCLMPC určuje délku fragmentu hrany na základě lokálního zakřivení a poskytuje výstup proveditelný pro křivočarou korekci MPC. Tato funkce se pokouší společně optimalizovat velikost souboru, přesnost a dobu spuštění pro korekci procesu křivočaré masky.
Možnost dosáhnout rychlé konvergence
Calibre NMCLMPC lze použít s předpětím založeným na zakřivení pro umožnění rychlé konvergence pro křivočaré MPC. Metoda předběžného zkreslení založená na zakřivení snižuje počet požadovaných iterací, aniž by snížila přesnost korekce, a šetří dobu běhu.
Možnost simultánní korekce
Calibre NMCLMPC může opravovat křivočaré a obdélníkové tvary v jednom běhu pomocí stejných pravidel jako ve standardním receptu na obdélníkové tvary.
Jste připraveni dozvědět se více o Calibre?
Jsme připraveni odpovědět na vaše otázky! Spojte se s naším týmem ještě dnes
Volejte: 1-800-547-3000
Konzultační služby Calibre
Pomůžeme vám přijmout, nasadit, přizpůsobit a optimalizovat vaše složitá návrhová prostředí. Přímý přístup ke strojírenství a vývoji produktů nám umožňuje využít hluboké odborné znalosti v oblasti a předmětu.
Centrum podpory
Centrum podpory Siemens vám poskytuje vše na jednom snadno použitelném místě -
databáze znalostí, aktualizace produktů, dokumentace, případy podpory, informace o licence/objednávce a další.
Konstrukce a výroba integrovaných obvodů Calibre
Sada nástrojů Calibre poskytuje přesné, efektivní a komplexní ověřování a optimalizaci integrovaných obvodů napříč všemi uzly procesů a styly návrhu a zároveň minimalizuje využití zdrojů a plány páskování.