Generování tvarů křivočarých masek v optické korekci přiblížení (OPC) místo čistých obdélníkových tvarů je stále realističtější jako metoda pro zlepšení výkonu litografie oplatky. Hlavní výhodou použití křivočarých tvarů je vylepšené procesní okno, což znamená, že obraz oplatky je během expozice méně citlivý na dávkování a zaostření. Díky zvýšenému výpočetnímu výkonu nejnovějších vysoce výkonných klastrů a dostupnosti multipaprskových masek zapisovačů (MBMW) lze tyto výhody litografie destiček realizovat v aktuálně vyvíjených technologických uzlech.
Velmi praktickou výzvou pro zavádění masek s křivočarými tvary do výroby je dostupnost spolehlivých kontrol pravidel masky (MRC). Motor OPC potřebuje nejen generovat tvary, které jsou vyrobitelné, ale obchod s maskami také potřebuje metodu ověření, že příchozí data masky jsou vyrobitelná. U křivočarých tvarů masky je to náročnější než u obdélníkových tvarů masky, protože jednoduché kontroly šířky a prostoru již nestačí.
V tomto článku, diskutujeme o komplexní sadě limitů MRC a demonstrujeme účinnost motoru MRC pracujícího na křivočarých vstupních datech. Zde použitá pravidla zahrnují minimální šířku exponovaných prvků, minimální prostor mezi exponovanými prvky, minimální zakřivení konvexních a konkávních tvarů, stejně jako minimální plochu exponovaných prvků.
