Skip to main content
Тази страница се показва с помощта на автоматизиран превод. Вместо това вижте на английски?

Calibre Mask Process Correction

Семейството продукти, базирани на правила и модели, базирани на правила и модели, Calibre Mask Process Correction се използва в усъвършенстваното производство на фотомаски за коригиране на систематичната литография на маската и източниците на грешки в процеса, за да се гарантира, че подписът на критичното измерение на маската е в рамките на спецификацията.

Свържете се с нашия технически екип 1-800-547-3000

Контури за Calibre Mask Process Correction в анализиран дизайн.
Видео

Въведение в Calibre nmMPC

Научете как Calibre NMMPC продължава да е водеща роля, установявайки нов еталон за точност и надеждност. Този синергичен подход към моделирането на маски поставя нов стандарт в индустрията на маските както за моделите на маски, така и за точността на MPC.

техническа хартия

Валидиране за литография на многолъчеви маски

Корекцията на процеса на маски (MPC) е добре установена като необходима стъпка в подготовката на данните за маски (MDP) за производство на маски с електронен лъч в модерни технологични възли от 14nm и след това. MPC обикновено използва модел на разсейване на електрони, за да представи експозицията на електронни лъчи и процесен модел за представяне на ефектите на процеса на развитие и ецване. Моделите се използват за итеративно симулиране на позицията на ръбовете на оформлението и преместване на сегментите на ръбовете, за да се увеличи максимално точността на позицията на ръба на завършената маска. Селективното определяне на дозата може да се използва заедно с движението на ръба, за да се увеличи едновременно максимално точността на прозореца на процеса и позицията на ръба.

MPC методологията за калибриране на модела и корекция на оформлението е разработена и оптимизирана за писателите на маски с векторна форма на лъч (VSB), които представляват доминиращата технология за литография на маски, която се използва днес за усъвършенствано производство на маски. Наскоро бяха въведени многолъчеви писатели на маски (MBMW) и сега започват да се използват при производството на обемни фотомаски.

Тези нови инструменти се основават на масивно паралелни архитектури за растерно сканиране, които значително намаляват зависимостта на времето за запис от сложността на оформлението и се очаква да увеличат и в крайна сметка да заменят VSB технологията за усъвършенствани маски на възли, тъй като сложността на оформлението продължава да расте [5] [6].

Въпреки че се очаква съществуващите MPC методи, разработени за литография на VSB, могат лесно да бъдат адаптирани към MBMW, е необходимо стриктно изследване на корекцията на грешките в маската за MBMW, за да се потвърди напълно приложимостта на текущите инструменти и методи и да се идентифицират всички модификации, които могат да бъдат необходими за постигане на желаната CD производителност на MBMW. В тази статия ще представим резултатите от такова проучване и ще потвърдим готовността на MPC за литография с многолъчеви маски.

A person is holding a book and appears to be reading it while sitting on a chair.

Продукти за Calibre Mask Process Correction калибър

Правилото за Calibre Mask Process Correction калибър и продуктите, базирани на модели, осигуряват най-добрата в класа мащабируемост и точност за коригиране на източниците на грешки от нанометъра до сантиметровия диапазон за ефекти на разсейване на електрони и зареждане на процеса. Усъвършенстваните инструменти за моделиране позволяват калибриране на модела до <1 nm точност.