Генерирането на криволинейни форми на маски при оптична корекция на близост (OPC) вместо чисти правоъгълни форми става все по-реалистично като метод за подобряване на ефективността на литографията на вафли. Основното предимство от използването на криволинейни форми е подобреният прозорец на процеса, което означава, че изображението на вафлата е по-малко чувствително към условията на дозиране и фокусиране по време на експозицията. С увеличената изчислителна мощност на най-новите високопроизводителни клъстери и наличието на многолъчеви писатели на маски (MBMW), тези предимства на литографията на вафли могат да бъдат реализирани в технологичните възли, които се разработват в момента.
Много практично предизвикателство за поставянето на маски с криволинейни форми в производството е наличието на надеждни проверки на правилата за маски (MRC). OPC двигателят не само трябва да генерира форми, които могат да се произвеждат, но магазинът за маски също се нуждае от метод за проверка дали входящите данни за маската са производими. За криволинейните форми на маски това е по-предизвикателно, отколкото за правоъгълните форми на маски, тъй като простите проверки на ширината и пространството вече не са достатъчни.
В тази статия ние обсъждаме изчерпателен набор от граници на MRC и демонстрираме ефективността на MRC двигател, работещ на криволинейни входни данни. Правилата, използвани тук, включват минимална ширина на изложените елементи, минимално пространство между изложените елементи, минимална кривина на изпъкнали и вдлъбнати форми, както и минимална площ на изложените елементи.
