Многолъчните писатели на маски (MBMW) позволяват използването на идеални криволинейни форми за маски с обратна литография (ILT), но текущите формати на оформление не са достатъчни, за да представят ефективно сложни ILT дизайни от оптична корекция на близост (OPC) до изработката на маски. През 2019 г. инициирахме работна група за формат на данни, за да отговори на необходимостта от криволинейно представяне на данни за MBMW. Работната група за криволинеен формат на данни има членове от компании на EDA и напреднали производители на маски. В тази статия ще бъде представена необходимостта от нов криволинейен формат на данни и целите на нашата работна група. Ще обсъдим напредъка и плана на работната група. Версия на тази статия беше представена на конференцията IEEE SPIE през 2021 г. и публикувана в материалите на конференцията.



