Calibre IC Manufacturing Решения

но решение от край до край, включващо всички стъпки за подготовка на криволинейни данни от пренасочване до SRAF, OPC, MPC и MDP, което отговаря на нуждите от генериране на криволинейни маски на специални приложения (SiPH) и дизайн на паметта.

Технологична възможност за фотолитографски процеси, включително екстремни ултравиолетови лъчи (EUV). Инструментите за изчислителна литография на Calibre предлагат подобрена точност, скорост и намалени разходи за собственост.

Активира задачи за преобразуване и проверка на формат на данни за маски за производство на маски, включително най-новите формати на маски с много лъчи в напълно съвместима платформа Calibre.

Осигурява оптимизации за писатели на маски за електронни лъчи. Новите възможности за корекция и моделиране подобряват линейността и еднородността на критичните измерения на маската за усъвършенствани възли.

Отговаря на предизвикателствата на производствената производителност и управлението на използването на системата, като същевременно постига бързи времена за изпълнение въпреки непрекъснато нарастващата сложност и обема на данни.

Подобрява добива на продукти и осигурява по-бърза скорост чрез структуриране и анализиране на огромни количества данни, създаване на прогнозиращи модели за машинно обучение и генериране на приложими анализи.

Calibre предлага цялостно решение за инфраструктура за потока, осигуряващо превъзходно време на изпълнение и последователност, за да отговори на производствените изисквания на устройства с памет и продукти със силно повтарящи се масиви.

Пакетът инструменти Calibre DFM включва инструменти за анализ на добива, печатаемост и валидиране на производителността за повишаване на добива и оптимизиране на IC дизайна.